- رقم التسجيل : 236145
- اللغة: En.
- رقم التصنيف: 621.36 E38R
- العنوان: Electron-Beam,X-Ray,and lon-Beam techniques for submicren lithographiesII
- المؤلف: Phillip D.Blais
- مكان النشر والناشر: Washington Intrnational Socity for optical engineering
- تاريخ النشر: 1983
- عدد الصفحات: v.393
- رؤوس المواضيع: Electron beams-Ion Beam lithograph
- عدد النسخ: 01
مساعدة - بحث جديد - الصفحة الرئيسية - English
نسخة تجريبية |
© جميع حقوق النشر محفوظة لجامعة بغداد / الامانة العامة للمكتبة المركزية 2012